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RISTECH   工藝應用
超純水系統凈水處理
發布人:admin   發布時間:2018-12-31   瀏覽次數:262次
超純水系統凈水處理
產品描述

獨特的優勢

● 超純水專用膜技術:采用膜表面高分子嫁接技術,不僅耐酸堿清洗、抗高污染,還可以加快離子遷移速度,使產水TOC在20PPB以下澳门赌博网【玩赌博网】澳门赌博平台;         

● CDI新型電除鹽技術:采用新型均粒樹脂包填充,雙流道錯流式高頻電子極板模式,有效提高脫鹽率;

● 超潔凈循環管道技術:采用國際上先進的新型材料對管道表面進行處理,保證系統運行無污染物析出,確保系統內無死水澳门赌博网【玩赌博网】澳门赌博平台。

應用領域

● 電子半導體材料、器件澳门赌博网【玩赌博网】澳门赌博平台、電解電容生產鋁箔及工作件的清洗用水;

● 顯像管、熒光屏生產、玻殼清洗、沉淀、濕潤澳门赌博网【玩赌博网】澳门赌博平台、洗膜澳门赌博网【玩赌博网】澳门赌博平台、管徑的清洗用水;

● 液晶顯示屏生產過程中清洗所用的配液用水;

● 電子芯片生產中,主要用于清洗硅晶元,另有少量用于藥液配制及切割用水;

● 集成電路生產中清洗硅片所用的高純水、高品質顯像管、熒光粉生產用水澳门赌博网【玩赌博网】澳门赌博平台;

● LCD、LED液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏工藝用水;

● 光伏產品晶片切割制造及光電產品生產用水;

● 蓄電池、鋰電池、太陽能電池生產用水;

● 電鍍澳门赌博网【玩赌博网】澳门赌博平台、涂裝、汽車、金屬及其他高端精密機械、精微產品表面處理用水澳门赌博网【玩赌博网】澳门赌博平台;

● 金屬、化工、生物等領域研究所用水;

● 航天、天文、核電等軍工企業,科研單位生產加工用水。

執行標準

● GB/T11446.1-1997《中國國家電子級水》

● JB/T7621-1994《電力半導體器件工藝用高純水》

● GB6682-2008《分析實驗室用水國家標準》

● ASTM-D5127-2007《美國電子學和半導體工業用超純水標準》

● GMP認證標準

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